Diminution of the lithographic process variability for advanced technology nodes

Thumbnail
Megtekintés/Megnyitás
Metaadat
Teljes megjelenítés
Link a dokumentumra való hivatkozáshoz:
http://hdl.handle.net/10890/16597
Gyűjtemény
Cím és alcím
Diminution of the lithographic process variability for advanced technology nodes
Szerző
Triválné, Szűcs Anna
Megjelenés ideje
2016
Védés dátuma
2016.01.14
Hozzáférés szintje
Open access
Nyelv
en
Egyéb azonosítók
BME OMIKK katalógus-azonosító: 000722825
BME OMIKK raktári jelzet: K-9871
Honosított fokozat azonosító: 620
Dokumentumtípus
Disszertáció
Műfaj
Doktori (Ph.D.) értekezés
Tudományág
villamosmérnöki tudományok
Egyetem
Université Grenoble Alpes, Saint-Martin-d'Hères, Franciaország